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第97章 097.反向制裁?!

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最新型euv光刻机!?

性能得到大幅度提升的光刻机!?

说实话,这句话对于很多人的冲击,绝对要比反向制裁更大。

从公开信息中不难查出,红星机械厂现在出售的euv光刻机,性能与y斯麦公司的euv光刻机,并无任何差距。

也就是说,红星机械厂现在正在出售的euv光刻机,就是世界上最先进的光刻机。

然后。

在这种情况下。

丁修竟然说,他们公司已经拥有了更先进的光刻机。

那岂不是说,y斯麦公司的euv光刻机,已经落后了红星机械厂一代!?

在其他行业,或许这一代的差距,并不算什么。可在光刻机行业,却是无法逾越的鸿沟!

英寺尔公司的创始人之一摩尔·戈登曾说集成电路可以容纳的晶体管数目,每经过18个月,就会增加一倍’。

换而言之,他的意思就是说,计算机(电脑、手机、平板、服务器......)处理器每隔两年,性能就会翻一倍。

从这里不难看出,芯片迭代速度之快。18个月,就会完成一次升级。

这,就是半导体行业著名的摩尔定律。

然而。

大概在一个月前。

一些业内知名人士,却纷纷宣称,摩尔定律或将被打破,人类已经进入后摩尔时代。

之所以出现这一观点。原因就出在这光刻机上。事情还要从半年前说起。

几个世界顶级的芯片设计企业,几乎在同一时间将3纳米\/2纳米芯片设计出来。

在确定设计无误后,便前往同样是世界顶级芯片代工厂的三鑫和太基电,企图借助他们的力量,将其生产出来。

原本一个个兴冲冲的等待着,幻想着自己成为第一个。

可,到了光刻这一步,却出了大问题。

y斯麦的光刻机,理论上能够实现这一级别的芯片生产。

可真正生产的时候,却三番两次的出现问题。

眼见18月之期即将到来,太基电他们无法将其生产出来,设计方只能找来大量知名人士,想要借助他们的力量,将问题解决。

可经过一番激烈的讨论之后,结果却是,光刻机的套刻精度不够。

也就是说,想要生产出3纳米级的芯片,就必须要将euv光刻机升级。

光刻机技术哪家强?

西欧风车y斯麦。

这种事情根本就没得选,那个时候,全世界只有y斯麦可以生产eu310v光刻机。

花费巨资。

结果却是非常失望。

y斯麦的最强光刻机,也无法将3纳米芯片真正生产出来。

想要达到要求,他们还需要很长时间,将自己公司的技术,实现再一次的升级。

于是乎。

就有了后摩尔时代这个名词

若是光刻机无法升级,那么,他们就永远得不到3纳米芯片。

18个月的限制,直接被标记上了不可能’三个大字。然而。

这才不过区区一个月。

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